哈工大上马光刻机整机项目？？？
2024年5月17日，哈尔滨市相关部门批复了东方大国国产自研光刻机项目，由国仪超精密集团的哈尔滨公司主导，投资总额高达11亿元。从技术上来说，哈工大已经具备量产的条件，只不过还需要一个生产的过程。
有业内人士爆料，目前这套国产光刻机的性能已经达到了国际先进水平，成本还更低，可谓性价比极高。
从中长期来看，东方大国的芯片制造成本有望因此得到大幅度压缩。
虽然这项技术是由哈工大主导研发出来的，但是其影响的领域可不仅仅局限于此。
有关专家认为，东方大国国产自研光刻机项目的批复意味着东方大国在光刻机领域取得重要突破，具有战略意义。
一旦我们自己掌握了这项核心技术，就不再需要向他人请教和进口设备，而且还能够衍生出更多更深层次的应用。
是的 预定科技发明特等奖 为啥不是长春光机所？ 任何芯片行业的新闻
只有做出产品来了我才信
不看好，光刻机这种东西靠大学根本没有市场化优势，这玩意又不是核弹你只要闭门造车搞出来就行，例如三星的3nm投资千亿，最近的消息是良率不过关，根本没有市场竞争力 项目太大。当然哈工大机电控测专业都很强 zjutlevel 发表于 2024-7-8 17:23
为啥不是长春光机所？
不带你玩了，没办法，卷吧。。 love276961 发表于 2024-7-8 17:24
不看好，光刻机这种东西靠大学根本没有市场化优势，这玩意又不是核弹你只要闭门造车搞出来就行，例如三星的 ...
咱们离3nm还远，而且是很远。。 该项目做的是干涉式光刻机，不是集成电路制造通常使用的投影式/浸没式光刻机，国内任何一个学校都没有独立研发DUV光刻机的能力，更不用说EUV光刻机了。 新原理光刻机项目。有7大关键核心技术，还可以吧！ 是的，早就国际领先了。只是为了示弱，不拿出来罢了。 @Abbvie 咱们这里就是随便聊聊，但你说的这些可能就泄密了。。 特殊行业专用，别讨论了 特殊行业专用，别讨论了 继续尬吹 好像是110nm的光刻机 Abbvie 发表于 2024-7-8 17:53
该项目做的是干涉式光刻机，不是集成电路制造通常使用的投影式/浸没式光刻机，国内任何一个学校都没有独立 ...
幸好这帖子涉及的学校是哈工，要是别的学校会被喷死。 讲真的，不管哪个学校搞，万一没搞出来，咋办？ 算了，110nm就别吹了 砍你一刀 发表于 2024-7-9 01:50
算了，110nm就别吹了
ASML的DUV光刻机是193nm, 可以做10nm以上的集成电路。中国现在想尝试一些新的方法来解决集成电路制造的卡脖子问题，比如多芯片的堆叠技术，对光刻机的依赖会降低很多。 哈工大在焊接和精密仪器上有优势，在集成电路制造方面有些想法很正常。 changwu 发表于 2024-7-9 02:13
哈工大在焊接和精密仪器上有优势，在集成电路制造方面有些想法很正常。
专用项目 ，可靠度要求高 继mcu白菜价后，光刻机也要白菜价了嘛？ 这种应该是用于特定行业的光刻机 changwu 发表于 2024-7-9 02:13
哈工大在焊接和精密仪器上有优势，在集成电路制造方面有些想法很正常。
集成电路制造是哈工大赵连城ys打下的基础，只能说目前感觉还行，至少不弱 Abbvie 发表于 2024-7-8 17:53
该项目做的是干涉式光刻机，不是集成电路制造通常使用的投影式/浸没式光刻机，国内任何一个学校都没有独立 ...
全息光刻是很有意思的一种光刻技术，值得一干。。。
干涉光刻（或全息光刻）是一种无需使用复杂的光学系统或光掩模即可对精细特征的规则阵列进行图案化的技术。基本原理[编辑]基本原理与干涉测量法或全息术相同。在记录层（光刻胶）中建立并记录两个或多个相干 光波之间的干涉图案。该干涉图案由一系列代表强度最小值和最大值的周期性条纹组成。在曝光后光刻处理时，会出现与周期性强度图案相对应的光刻胶图案。对于双光束干涉，条纹间间距或周期由下式给出 中国缺乏的是制造7nm,5nm,3nm芯片所用的EUV光刻机，结果被一些媒体随意简称为中国缺乏光刻机，实际上上海微电子已经能够制造出成熟的90nm制程的DUV光刻机，并且供应市场多年。另外，还有芯片生产后道工序封装用的光刻机，那样的线宽可能达到几百甚至上千nm，更容易做，这样的光刻机中国也不缺。不要将所有的光刻机混淆等价于EUV光刻机。 中科大工学博士Jm在头条上打假光刻机的相关信息。 春华秋实 发表于 2024-7-9 20:15
中科大工学博士Jm在头条上打假光刻机的相关信息。
这个与哈工大的全息光刻机没关系啊，另外中科大的工科就是不入流啊！！！
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