外网消息，中国正在自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，和ASML采用的LPP方法不同。在华为东莞工厂进行测试
外网消息，中国正在自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，和ASML采用的LPP方法不同。说是目前正在华为东莞工厂进行测试。试生产计划将于2025年9月前后进行，量产时间定在了2026年。如何看待这个消息呢，其实前几天就已经提过了，很多台湾的网军在引导悲观负面，但举国之力推进半导体领域的攻坚战确实在进行，且获得积极可靠有效的成果。任总已经给出了时间节点和最低自研版图占比，军令状不是儿戏更不是过家家，明白了这一点，任何的唱衰都会显得有点愚昧了 祝贺，2026年就量产，感谢做出贡献的科学家和工程师，以后要进入并跑阶段了，争取做出更多突破性贡献！ 台积电韩裔工程师发文了，估计是真的 10W可以用，速度要低一些 新凯来的吗？ 不知道是真是假。即便是真的，提高良率也需漫长的路要早。 低调低调，把大侄子气坏了不好。 华为进军芯片制造，打败ASML putaman 发表于 2025-3-10 03:04
不知道是真是假。即便是真的，提高良率也需漫长的路要早。
不管真假，先进半导体设备太卡脖子了，不管那种路线，能用起来就好，应该还有不少其他的的设备不行。 congyun 发表于 2025-3-9 23:57
10W可以用，速度要低一些
说是100W，低于ASML的250W，但够用 本帖最后由 本来无所谓 于 2025-3-10 09:40 编辑
早盘，相关股票没有涨停啊。纯疑 概念在涨，就是还没见到板。 板了一个 如果为真，对高校相关科研人员来说，以后申请经费就比较难了，可能得转换科研方向 LDP光源并不是哈工大的技术路线 Abbvie 发表于 2025-3-10 10:47
LDP光源并不是哈工大的技术路线
这个不重要，现在哈工大的光源就是LDP技术的。。 老早的消息了。上周的。半导体涨过好几轮了。 先用起来再说，不要要求太高 这个技术消息是一个在台积电上班的韩国人透露的，别的都语焉不详，他说的比较清楚。。。
哈工大最早是电极放电等离子技术（DDP），后来改成了激光放电等离子（LDP），这个改变很重要；现在国内也有做LPP方案的，大家就竞争了，优胜劣汰，但现在有一个LDP能先顶上去，也是很不错的。。。 如果把高端光刻机解决了，美国真的要把老大的位置让了，绿哇也要准备投降了 szh720819 发表于 2025-3-10 14:02
如果把高端光刻机解决了，美国真的要把老大的位置让了，绿哇也要准备投降了...
不然台积电为什么叫”护国神山“呢？不然特朗普要明抢呢? 本帖最后由 小梅沙 于 2025-3-10 14:58 编辑
LDP技术到100W，世界先进水平，解决国家急需。哈工大赵永蓬教授几十年的努力，可以直接选为院士，不用三大奖。（如 李东 ） 时间节点太早了，明年最多浸润式光刻机量产，EUV2030年代出来。EUV光刻机难度比C929大，怎么可能那么快？ 时间节点太早了，明年最多浸润式光刻机量产，EUV2030年代出来。EUV光刻机难度比C929大，怎么可能那么快？ 今天市场反馈偏正面，但也犹豫。光源封了20个点的板，物镜也涨了5个点。 中国7nm、10nm、14nm芯片产能不足，明显是浸润式DUV还没量产。2026年量产浸润式DUV，2027年把7nm干到白菜价。三星靠4nm、5nm、7nm代工，三星做不出3nm，三星代工可能先倒掉。 哈工大光学马祖光院士创建的，已出成绩1：马晶谭立英 空间激光通信；2：赵永蓬 EUV光源（DPP、LDP）。 三星的4nm打不过台电的5nm，我们做到台电5nm，三星代工就可以倒闭了 本帖最后由 本来无所谓 于 2025-3-10 15:22 编辑
独孤九剑破刀式 发表于 2025-3-10 15:04
中国7nm、10nm、14nm芯片产能不足，明显是浸润式DUV还没量产。2026年量产浸润式DUV，2027年把7nm干到白菜价 ...
㓎润式duv是上海微电子在搞，不靠谱，黄的可能性很大。国内duv保有量超过1000台，而且还在进口，duv包括㓎润式的国产化意义可能没那么大了，搞整机不如搞零配件。最近说的euv是新凯来的项目，跟原来㓎润式duv那帮人不是一起的。
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