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网友们,光刻机是不是已经快成功了?

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高级战友

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发表于 2025-8-17 07:56:16 来自手机 | 显示全部楼层 |阅读模式
浙大的新闻看了吗?0.6纳米。再加上去年哈工大也有新闻。

老战友

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发表于 2025-8-17 08:36:12 | 显示全部楼层
主流媒体未见报道,
再等等吧

青铜长老

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发表于 2025-8-17 10:10:16 | 显示全部楼层
消息灵通,胜过羲之!

新手上路

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发表于 2025-8-17 10:47:36 | 显示全部楼层
哪有那么快 ,能量产的光刻机才有实用,一步一步来吧

初出江湖

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发表于 2025-8-17 10:50:08 | 显示全部楼层
目前要做到量产还是有困难

青铜长老

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发表于 2025-8-17 11:03:01 来自手机 | 显示全部楼层
电子束光刻机,路线不一样

青铜长老

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发表于 2025-8-17 11:04:37 来自手机 | 显示全部楼层
100kV,直接上110kV变压器

青铜长老

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发表于 2025-8-17 11:05:53 来自手机 | 显示全部楼层
8nm线宽,0.6nm精度

未关注公众号会员1

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发表于 2025-8-17 11:05:58 来自手机 | 显示全部楼层
其实大伙基本上都是纸上谈兵,无论多么先进的东西,都是可以研制的,一般高校都可以研制,问题是能否制造出来,这也是唯一的问题。

青铜长老

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发表于 2025-8-17 11:20:04 来自手机 | 显示全部楼层
我看了羲之是用在科研的,量产芯片还是要EUV

初出江湖

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发表于 2025-8-17 11:29:30 | 显示全部楼层
米国是不是已经0.3了?

老战友

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发表于 2025-8-17 11:32:51 来自手机 | 显示全部楼层
2035甚至2040年之前光源都不会有变化,这是业界公认的,因此光刻机追赶上去是迟早的事,目前3nm芯片是等效密度,实际加工是22nm,因此还没有达到物理极限,工艺和密度还可以慢慢改进和提高的,

问题是现在大家不知道2035年以后用什么技术了,现在的EUV技术的原理,是美国人在90年代末期花了10亿美元研发出来的,科研届花了大量的心血,发了大量论文,证明了这条路可行,然后工业界基于原理把样机做出来了,很快咋们就会就会进入没有美国人帮咋们探索原理的阶段了

高级战友

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发表于 2025-8-17 11:37:28 来自手机 | 显示全部楼层
这不是光刻,是电子束刻蚀,就不是一码事,电子束的精度控制就容易太多了

初出江湖

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发表于 2025-8-17 11:42:44 | 显示全部楼层
独孤九剑破刀式 发表于 2025-8-17 11:20
我看了羲之是用在科研的,量产芯片还是要EUV

对,这个应该还是卖给之江实验室、中科大这些搞量子、芯片的科研单位

白银长老

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发表于 2025-8-17 12:26:16 来自手机 | 显示全部楼层
打印机和复印机的区别,互为补充,但互不取代

初出江湖

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发表于 2025-8-19 10:05:16 | 显示全部楼层
看到新闻宣传的是光刻机+高校突破,就不用看了,没有任何意义,和FAB厂用的光刻机不是一个东西

初出江湖

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发表于 4 小时前 来自手机 | 显示全部楼层
。。。。
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