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发表于 2025-8-17 11:32:51
来自手机
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2035甚至2040年之前光源都不会有变化,这是业界公认的,因此光刻机追赶上去是迟早的事,目前3nm芯片是等效密度,实际加工是22nm,因此还没有达到物理极限,工艺和密度还可以慢慢改进和提高的,
问题是现在大家不知道2035年以后用什么技术了,现在的EUV技术的原理,是美国人在90年代末期花了10亿美元研发出来的,科研届花了大量的心血,发了大量论文,证明了这条路可行,然后工业界基于原理把样机做出来了,很快咋们就会就会进入没有美国人帮咋们探索原理的阶段了
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