全息光刻是很有意思的一种光刻技术,值得一干。。。
干涉光刻(或全息光刻)是一种无需使用复杂的[color=var(--color-progressive,#36c)]光学系统或[color=var(--color-progressive,#36c)]光掩模即可对精细特征的规则阵列进行图案化的技术。 基本原理[[color=var(--color-progressive,#36c)]编辑][color=var(--color-progressive,#36c)]基本原理与干涉测量法或[color=var(--color-progressive,#36c)]全息术相同。在记录层([color=var(--color-progressive,#36c)]光刻胶)中建立并记录两个或多个[color=var(--color-progressive,#36c)] 相干 [color=var(--color-progressive,#36c)] 光波之间的干涉图案。该干涉图案由一系列代表强度最小值和最大值的周期性条纹组成。在曝光后[color=var(--color-progressive,#36c)] 光刻处理时,会出现与周期性强度图案相对应的光刻胶图案。 对于双光束干涉,条纹间间距或周期由下式给出 |