哈工大仪器学院 几位光刻机领域青年人才介绍如下

科学家

1、赵勃  国家级青年人才
研究领域
光刻机系统隔微振技术
（1）面向350&700nm光刻机系统的一体式隔微振技术
（2）面向90nm-28nmDUV光刻机系统的分体式隔微振技术
（3）面向EUV光刻机的磁悬浮隔微振技术
具体内容包括隔微振系统动力学模型建立及仿真，隔振装置机械结构设计、加工及系统搭建，各类传感器信号采集电路、电机驱动电路、控制电路等的设计及调试，隔微振控制方法仿真与实验验证等。
压电驱动与控制技术
面向光刻机系统等对高精度执行器及驱动单元的需求，围绕尺蠖电机、超声电机、压电堆叠三种执行器的结构设计、驱动与控制技术等开展相关研究。具体内容包括执行器结构设计与仿真、高频高压驱动电路设计与调试、测试平台搭建与实验验证等。
超声显微技术
面向航空航天装备核心零部件的无损检测需求，开展超声显微关键技术研究。具体内容包括超声探头设计与制备、声学信号驱动与采集电路设计与调试、微缺陷与应力场表征与成像、超声显微系统集成与实验验证等。


2、刘杨，教授/博士生导师，国家级青年人才，国家重大项目技术副总指挥，谭久彬院士团队超精密测控方向负责人。
长期从事光刻机运动性能调控工作，针对光刻机如何在高动态复杂场景下实现多自由度精细解耦、多源扰动精确抑制以及多运动体精准动态协同等难题，提出了数据与机理融合驱动的超精密光刻装备精度调控理论，开发了超精密甚多轴强实时电控系统软硬件平台，解决了光刻装备高动态与高精度难以兼顾的核心难题，相关成果入选中国电子科技集团十大科技进展。在本领域顶级期刊以第一/通讯作者发表SCI论文45篇，其中ESI热点论文1篇，ESI高被引论文2篇，主持国家级项目8项，行业龙头企业委托项目8项，参与省部级以上项目10项，授权发明专利56项，获中国仪器仪表学会技术发明一等奖1项（序1），中国仿真学会创新技术一等奖1项（序1），入选全国卓越工程师培养优秀校企导师组。
学术任职
先进光刻技术研讨会共主席。
光刻机制造技术创新中心委员。
中国仪器仪表学会集成电路测量与仪器分会常委
中国机械工程学会半导体装备分会委员。


3、吴剑威，长聘教授/博士生导师，仪器学院。

学术兼职：国家级重大项目技术副总指挥；中国机械工程学会极端制造分会理事；中国仪器仪表学会精密工程分会委员；ISPEMI 2018, Secretary General；Engineering、Tribology International、Precision Engineering、Mechanism and Machine Theory等国际期刊审稿人。
学术研究：主要研究方向为超精密半导体装备技术、超精密运动与定位技术、智能化精准测量机器人技术。发表SCI、EI检索论文40余篇，授权国际发明专利4项、国家发明专利50余项。
科研项目：作为项目负责人主持国家级项目、国家重点研发计划、国家02科技重大专项子课题、国家自然科学基金、中国计量院、上海微电子集团横向委托等。
学生培养：指导和协助指导研究生多次获校优秀博士生、优秀硕士论文等奖项；指导本科生参加全国大学生光电设计竞赛，机器人大赛、“互联网＋”全国大学生创新创业大赛等，多次获得国家级竞赛奖项。
获奖成果：中国仪器仪表学会技术发明一等奖（序1），黑龙江省重点领域首台套创新产品奖，中国仪器仪表学会海豚创新团队，美国精密工程及纳米技术学会优秀论文奖。

4、胡鹏程 国家级青年人才。
现任哈尔滨工业大学长聘教授、博士生导师，担任精密仪器工程研究院副院长，主要从事超精密激光干涉测量技术研究，2019年入选国家高层次青年人才计划，其团队研发的高速超精密激光干涉仪荣获首届金燧奖金奖。

科学家

刘杨、吴剑威  国家重大项目技术副总指挥

科学家

刘杨  主持国家级项目8项，行业龙头企业委托项目8项。

科学家

哈工大仪器学院院长崔俊宁说，如今学院每月都召开专题会议，研究以专利转让、授权、共享等方式，重点培育新一代光刻装备技术、超分辨高通量显微仪器技术、新一代光栅测量技术、纳弧级三轴激光自准直技术、自然采光照明技术、超声刀技术及声光材料应用产业。

科学家

吴剑威作为核心发明人，开发了基于双轴导向和半解耦联动的高速可变光阑技术，该系统通过精密导轨与驱动控制单元实现高精度窗口扫描，主要应用于光刻机曝光系统等高分辨率成像设备。以下是关键细节：

‌核心技术原理‌

‌双轴导向可变光阑‌：采用主动导轨与从动导轨平行安装结构，结合磁性预紧和轴承预紧单元，实现光阑片正交运动解耦，支持平面内任意范围窗口扫描，提升扫描精度和效率‌。
‌半解耦联动式可变光阑‌：通过4个主动气浮导轨和联动模块控制光阑板运动，利用双层气浮模块减少摩擦，实现高动态响应和亚微米级定位精度‌。
‌性能优势‌：相比传统光阑，扫描速度提升30%以上，定位精度达±0.1μm，适用于纳米级光刻工艺‌。
‌系统应用场景‌

‌光刻机曝光系统‌：作为可变狭缝系统（VS）的核心部件，控制曝光区域和剂量，直接影响套刻精度和芯片制造效率‌。
‌高分辨率成像设备‌：如投影式曝光装置，支持大面积高均匀性曝光，适用于半导体晶圆和光子芯片制造‌。
‌技术延伸与关联‌

‌相关研究团队‌：合作者包括温众普（主持气浮导轨相关国家基金项目）和谭久彬（精密测量领域专家），共同推动精密导向技术发展‌。
‌未来方向‌：结合飞秒激光器和非线性显微成像系统，可拓展至生物医学无损检测和第三代半导体表征。

科学家

深耕超精密运动系统，破解光刻机核心技术难题

哈尔滨工业大学刘杨教授在《超精密运动系统的探索与实践》的主题报告中，分享了团队在光刻机超精密运动控制领域的研究成果，聚焦掩模台、工件台等核心部件的技术突破。



哈尔滨工业大学刘杨教授

众所周知，光刻机作为半导体制造“卡脖子”装备，超精密运动台测控技术是其七大关键技术之一——掩模台承载掩模版、工件台承载晶圆，二者需在高动态运动中实现纳米级同步精度。

对此，刘杨教授团队梳理出该领域三大核心痛点：“无法制造”、“无法集成”、“无法运行”，并提炼出三大技术难点：高加速、高速度与高定位精度的兼顾，全耦合多自由度运动体解耦，结构模态与控制带宽的矛盾。

针对这些挑战，刘杨提到从高动态轨迹生成与整形技术、多自由度智能解耦技术、迭代学*扰动补偿技术和甚多轴协同控制技术等四大关键技术切入突破。

此外，其团队还研制高实时性运动控制系统硬件平台，采用VME总线与VxWorks实时操作系统，控制轴数超70轴，同步时间<100ns，数据传输速度达5Gbps，满足14nm节点光刻机需求，且支持全国产化部署与自主算法高效集成。

刘杨教授表示，团队成果已在部分样机与专用设备中应用，未来希望与企业深度合作，推动超精密运动控制技术从样机走向产线，助力国产光刻装备自主可控发展。

科学家

哈工大刘杨教授表示，哈工大以“规格严格、功夫到家”校训，长期与航天深度融合，课程、选题对标产业需求。针对集成电路装备领域，主张高校教师深入企业挖掘科学问题，同时呼吁企业提供良好发展空间，加强产学互动，解决行业“平台期缺人”难题。

十三月

方向太契合时代发展了

蜗牛爱吹牛

哈工大提前谋划，学科布局很有前瞻性，具有卓实远见。