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发表于 2026-2-9 14:44:06
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" T0 A3 |5 A% `! m5 m% ?& v. W南开大学最近新建了集成电路团队,目前有7位博导。
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1)胡伟波,2005年,在哈尔滨工业大学本科毕业 2008年,在北京大学硕士毕业; 2014年,在美国德州理工大学博士毕业; 2013到2017年,在美国高通公司圣地亚哥总部工作; 2017年,到南开大学工作。
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2)陈普锋,2025.6至今,南开大学,电子信息与光学工程学院,研究员;# @, u1 b1 F% d- C6 a
2013.7~2025.5,中科海高微波技术有限公司,联合创始人/副总经理,领导公司产品和技术研发;! z, w5 ]8 u9 K8 y0 c! ~3 y
2010.7~2013.6,中国电子科技集团第29研究所(嘉纳海威科技有限公司),硅基射频集成电路设计工程师、硅基射频集成电路设计组组长;
i& P5 `/ f8 z0 ^! `' p2011.1~2012.1,加拿大McGill大学,电子工程系,访问科学家;
: U+ V$ t* O; e; c. W; w2005.9~2010.6,中国科学院微电子研究所(中国科学院大学),微电子学与固体电子学专业,博士;; ?0 _3 a# J2 O
2001.9~2005.6,首都师范大学,电子信息工程专业,学士;
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& c" q' l# a5 e5 f3)罗锋,2021年加入南开,国家高层次人才
. \/ P, j7 Z, C4 t6 Y课题组(模拟IC设计、微纳加工与超精密制造团队)的研究方向包括模拟IC设计(电源)、工艺与器件集成的可靠性以及失效分析;极紫外光刻的光刻胶合成与评估,镜面抛光,掩模制作与缺陷检测,基于同步辐射、自由电子激光等大科学装置(同步辐射装置的小型化、专业化集成)极紫外光刻(曝光/检测);面向自旋电子学/量子传感的晶圆级器件的制造工艺、器件集成、微纳加工/超精密制造装备。6 Q8 R9 I! y: N8 I& q7 i% K
1)低功耗高端电源管理/车规级/宇航级超低静态电流高端智能电源管理;聚焦静电放电ESD的可靠性设计测试失效分析技术;
2 ]7 l3 j( n+ M- S; `2)极紫外光刻技术光刻胶合成制造与刻蚀评估;化学/物理沉积制备5nm工艺节点以下极紫外光刻胶及其在存储/GAA逻辑工艺上的验证;极紫外光刻掩模设计与制造、极紫外光刻掩模检测;与同步辐射EUV相关的离子束镜面抛光工艺与装备;
8 V. p- U& W+ Z \" Z3)超低功耗自旋/自旋电子学的新材料/器件;晶圆级微纳加工与制造新方法学/微纳混合制造工艺开发;基于磁电/磁光器件所特有的4D电镜和同步辐射光源的原位表征方法;基于同步辐射光源的sub-20nmXCT无损检测与缺陷检测;8 V0 a* t$ p) u3 M' g9 K6 W
4)8/12英寸纳米压印光刻关键的光刻胶材料、套刻压印工艺技术与专属化装备;6/8/12英寸离子束沉积/抛光/刻蚀关键工艺与专属化装备;4 ]6 J4 F4 s* l8 B; _7 e
% E! S6 q, D; Y7 w5 [" N4)肖知明,国家四青,在ADI有8年一线芯片设计和产品研发经验。前ADI主管,2019年加入南开
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+ ]+ O% J, k( h5)王美玉,集成电路芯片封装,2021年加入南开7 r/ t4 h" v5 _! e
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6)王伟,国家高层次人才,2022年加入南开# G) z5 K0 k" q
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7)高鹏,2025年加入南开,具体简历未透露。
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